Yarı iletken üretiminin dev ismi TSMC, Nvidia’nın cuLitho platformunu kullanarak çip üretiminde yaşanan hesaplama darboğazlarını aşmayı hedefliyor. Nvidia’nın cuLitho platformu, gelişmiş çip üretiminde büyük öneme sahip olan hesaplamalı litografi sürecini hızlandırarak üretim verimliliğini artırıyor.
Hesaplamalı litografi, yarı iletken üretiminde en fazla işlem gücü gerektiren aşamalardan biri olarak biliniyor. Bu süreç, elektromanyetik fizik, fotokimya ve hesaplamalı geometri gibi karmaşık hesaplamaları içeriyor. Geleneksel sistemler, bu hesaplamaları yapmak için büyük veri merkezlerine ihtiyaç duyuyor ve yıllık on milyarlarca saatlik işlem süresi gerektiriyor. Ancak mevcut fiziksel sınırlarla birlikte bu yöntemler yetersiz kalıyor.
Nvidia’nın cuLitho platformu, 350 Nvidia H100 Tensor Core GPU’su ile destekleniyor ve 40.000 CPU sistemini devre dışı bırakarak, üretim süresini kısaltırken enerji tüketimini ve veri merkezi alanını önemli ölçüde azaltıyor. TSMC CEO’su C.C. Wei, bu iş birliği sayesinde performansta büyük sıçramalar yaşandığını, işlem hızının arttığını ve güç gereksinimlerinin azaldığını belirtiyor.
Nvidia ayrıca cuLitho’ya optik yakınlık düzeltme (OPC) sürecini hızlandıran yapay zeka özellikleri ekledi. OPC, yarı iletken litografisinde devre desenlerinin bir fotomaskeden silikon levhaya daha doğru şekilde aktarılmasını sağlayan kritik bir süreç.
Bu gelişme, her bir maskenin daha hızlı üretilmesini sağlarken, yeni çip teknolojilerinin geliştirilme süresini de kısaltıyor. Ayrıca, hesaplama sürelerinin uzunluğu nedeniyle daha önce kullanılamayan ters litografi gibi tekniklerin de üretim süreçlerine dahil edilmesi mümkün hale geliyor.
